发明名称 发光二极管阵列及其形成方法
摘要 本发明有关于一种发光二极管阵列及其形成方法。该阵列包含一具有一第一电极的第一发光二极管,以及一具有一第二电极的第二发光二极管。第二发光二极管与第一发光二极管彼此分离。一第一介电层位于第一发光二极管与第二发光二极管之间。一互连线至少部分地位于第一介电层之上,而将第一电极连接至第二电极。一第二介电层形成于第一介电层及互连线之上。一反射层形成于第二介电层之上。一永久基板耦接至该反射层。
申请公布号 CN103178075A 申请公布日期 2013.06.26
申请号 CN201210175272.6 申请日期 2012.05.30
申请人 华夏光股份有限公司 发明人 卢怡安
分类号 H01L27/15(2006.01)I;H01L33/36(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I 主分类号 H01L27/15(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;祁建国
主权项 一种发光二极管阵列,其特征在于,包括:一第一发光二极管,包括一第一电极;一第二发光二极管,包括一第二电极,其中该第二发光二极管与该第一发光二极管分离;一第一介电层,位于该第一发光二极管与该第二发光二极管之间;一互连线,至少部分地位于该第一介电层之上,该互连线将该第一电极连接至该第二电极;一第二介电层,形成于该第一介电层及该互连线之上;一反射层,形成于该第二介电层之上;以及一永久基板,耦接至该反射层。
地址 大开曼岛阿格兰屋邮政信箱309
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