发明名称 | 一种金属化学机械抛光浆料及其应用 | ||
摘要 | 本发明提供一种用于铜的化学机械抛光浆料及其应用,该浆料包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂,腐蚀抑制剂,和至少一种磷酸酯类表面活性剂。使用本发明的浆料的可以保持较高的铜的去除速率,改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口,抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。 | ||
申请公布号 | CN103160207A | 申请公布日期 | 2013.06.19 |
申请号 | CN201110424891.X | 申请日期 | 2011.12.16 |
申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;张建;蔡鑫元 |
分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
主权项 | 一种金属化学机械抛光浆料,包括研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂,其特征在于,还至少含有一种磷酸酯类表面活性剂。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 |