发明名称 |
发光调整装置 |
摘要 |
一种发光调整装置,其包括反射杯及铝基板,该反射杯呈中空且两端为开放式开口的锥状体,该反射杯一端开口设有透镜,该反射杯侧边开设有沟槽,而该铝基板周侧设有连通管,该连通管对应沟槽可上下位移,该铝基板表面设有发光组件,借此调整该铝基板且带动连通管位移,使该发光组件的光源靠近或远离透镜,产生光源集中或散射的变化,且借由连通管传导发散发光组件及反射杯的热量,以防止内部组件的烧损。本发明可调整发光组件通过透镜照射出来的光源范围,散热效果佳。 |
申请公布号 |
CN103162241A |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201110413949.0 |
申请日期 |
2011.12.13 |
申请人 |
李文嵩 |
发明人 |
李文嵩 |
分类号 |
F21V14/02(2006.01)I;F21V29/00(2006.01)I |
主分类号 |
F21V14/02(2006.01)I |
代理机构 |
天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 |
代理人 |
钱凯 |
主权项 |
一种发光调整装置,具特征在于,包括一反射杯及一铝基板,其中:该反射杯具有一透光口及一进出口,该透光口组设有一透镜,该透光口朝进出口环设一环形锥面,该环形锥面连接该透光口与该进出口,该透光口、进出口与环形锥面之间形成一容置室,另沿着该环形锥面开设有至少一沟槽;该铝基板设于该进出口位置,该铝基板外周侧凸伸至少一连通管对应至少一沟槽,该铝基板表面设有一发光组件;借此,该铝基板由进出口朝透光口上下位移,带动该至少一连通管沿着至少一沟槽上下位移,该发光组件因该铝基板上下位移高度的不同,而使该发光组件的光源远离或靠近透光口,使光源产生集中或散射不同的变化。 |
地址 |
中国台湾台中市 |