发明名称 |
氮化物半导体模板和发光二极管 |
摘要 |
本发明提供一种低电阻且结晶性良好的氮化物半导体模板、和使用其的发光二极管。氮化物半导体模板(10)具备PSS基板(11)和在PSS基板(11)上形成、使最上层为添加了Si的Si掺杂GaN层(14)的III族氮化物半导体层,III族氮化物半导体层的总膜厚为4μm以上10μm以下,Si掺杂GaN层(14)具有Si浓度倾斜层(14b),所述Si浓度倾斜层(14b)的载流子浓度朝着最表面慢慢降低,且在III族氮化物半导体层的最表面的载流子浓度为1×1017cm-3以上5×1017cm-3以下。 |
申请公布号 |
CN103165773A |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201210539514.5 |
申请日期 |
2012.12.13 |
申请人 |
日立电线株式会社 |
发明人 |
今野泰一郎;藤仓序章 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/22(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
钟晶;於毓桢 |
主权项 |
一种氮化物半导体模板,其具备基板和在所述基板上形成、使最上层为添加了Si的Si添加层的III族氮化物半导体层,所述III族氮化物半导体层的总膜厚为4μm以上10μm以下,所述Si添加层具有Si浓度倾斜层,所述Si浓度倾斜层的载流子浓度朝着最表面慢慢降低,且在所述III族氮化物半导体层的最表面的载流子浓度为1×1017cm‑3以上5×1017cm‑3以下。 |
地址 |
日本东京都 |