发明名称 氮化物半导体模板和发光二极管
摘要 本发明提供一种低电阻且结晶性良好的氮化物半导体模板、和使用其的发光二极管。氮化物半导体模板(10)具备PSS基板(11)和在PSS基板(11)上形成、使最上层为添加了Si的Si掺杂GaN层(14)的III族氮化物半导体层,III族氮化物半导体层的总膜厚为4μm以上10μm以下,Si掺杂GaN层(14)具有Si浓度倾斜层(14b),所述Si浓度倾斜层(14b)的载流子浓度朝着最表面慢慢降低,且在III族氮化物半导体层的最表面的载流子浓度为1×1017cm-3以上5×1017cm-3以下。
申请公布号 CN103165773A 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201210539514.5 申请日期 2012.12.13
申请人 日立电线株式会社 发明人 今野泰一郎;藤仓序章
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/22(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶;於毓桢
主权项 一种氮化物半导体模板,其具备基板和在所述基板上形成、使最上层为添加了Si的Si添加层的III族氮化物半导体层,所述III族氮化物半导体层的总膜厚为4μm以上10μm以下,所述Si添加层具有Si浓度倾斜层,所述Si浓度倾斜层的载流子浓度朝着最表面慢慢降低,且在所述III族氮化物半导体层的最表面的载流子浓度为1×1017cm‑3以上5×1017cm‑3以下。
地址 日本东京都