发明名称 一种海水淡化装置
摘要 本实用新型涉及一种海水淡化装置,包括:真空泵、海水泵、海水预热室和真空蒸发室。海水通过海水泵进入海水预热室进行预热,然后进入真空蒸发室部分蒸发,得到的蒸汽再通入海水预热室进行冷凝获得淡水,同时对海水进行预热。真空蒸发室和海水预热室均在转轴的带动下旋转,从而获得海水低温蒸发所需的真空环境,并使热敏性流体在转动摩擦时产生热量来加热蒸汽。本实用新型的装置利用自身产生的蒸汽和摩擦介质的发热量提供海水淡化能量,不需添加化学试剂,环境友好,其可由电能驱动,也可由可再生能源、尤其是风能、水能、潮汐能等可再生机械能源直接或间接驱动。
申请公布号 CN202988778U 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN201220608724.0 申请日期 2012.11.16
申请人 海南大学 发明人 马庆芬;卢辉
分类号 C02F1/04(2006.01)I;C02F103/08(2006.01)N 主分类号 C02F1/04(2006.01)I
代理机构 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人 龚燮英
主权项 一种海水淡化装置,其特征在于,包括: 真空泵(1); 海水泵(2); 海水预热室(3),所述海水预热室(3)包括: 穿过所述海水预热室(3)设置的第二转轴(5’),所述第二转轴(5’)和所述海水预热室(3)的壳体之间设置机械密封(6); 海水预热腔(25),所述海水预热腔(25)位于所述海水预热室(3)内部,并且围绕所述第二转轴(5’)而设置于其上, 与所述海水预热室(3)的壳体顶部固定连接的静盘(14),所述静盘(14)上设置不凝气出口(27),所述静盘(14)外缘设置溢流堰(13),所述溢流堰(13)和所述海水预热腔(25)配合形成淡水溢水口(12); 设置在所述海水预热腔(25)底部的摩擦加热器(35),所述摩擦加热器(35)包括:固定在所述海水预热腔(25)底板上的旋转壳(34)、围绕水蒸气进口(36)并且穿过所述水蒸气进口(36)开口至外部的蒸汽盘管(33)、以及夹置于所述旋转壳(34)之间的密封盖(31),所述密封盖(31)与所述水蒸气进口(36)之间设置机械密封(32); 设置在所述海水预热腔(25)内部并固定于所述静盘(14)下方的空心圆柱状蒸汽挡板(28); 设置在所述旋转壳(34)和所述蒸汽挡板(28)之间的海水 盘管(30),所述海水盘管(30)各层之间设有水平环形折流板(29),所述折流板(29)交错固定于所述旋转壳(34)和所述蒸汽挡板(28)上,所述海水盘管(30)的两端分别与冷海水进口(38)与热海水出口(37)相连; 设置在所述海水预热腔(25)的侧面外缘上端的第二导流片(8’); 位于所述海水预热室(3)的壳体上方的所述水蒸气进口(36)和抽气口(26),所述水蒸气进口(36)与所述海水预热室(3)的壳体之间设置静密封(22); 位于所述海水预热室(3)的壳体侧面的淡水出口(39)和位于所述淡水出口(39)处的第一导流片(8);以及 分别设置在所述海水预热室(3)和所述海水预热腔(25)底部的第一排污口(24)和第二排污口(24’); 真空蒸发室(4),所述真空蒸发室(4)包括: 穿过所述真空蒸发室(4)设置的第一转轴(5),所述第一转轴(5)和所述真空蒸发室(4)的壳体之间设置机械密封(6); 淡水槽(11),所述淡水槽(11)位于所述真空蒸发室(4)内部,并且围绕所述第一转轴(5)而设置于其上; 与所述真空蒸发室(4)的壳体顶部固定连接的静盘(14),所述静盘(14)外缘设置溢流堰(13),所述溢流堰(13)和所述淡水槽(11)配合形成淡水溢水口(12); 设置在所述淡水槽(11)底部的布液器(20),所述布液器(20)包括:固定在所述淡水槽(11)底板中心处的中心柱(19)、固定于所述淡水槽(11)内缘附近的空心圆柱形挡 液板(16)、以及水平交错安装于所述中心柱(19)和所述挡液板(16)上的布液盘(17); 位于所述真空蒸发室(4)内部、并且围绕所述第一转轴(5)而设置于其上的排水槽(7),所述排水槽(7)的底部设置第二排污口(24’),所述排水槽(7)侧壁设有数个排水孔,并安装有排水阀(10),所述排水孔外缘设有第二导流片(8’);所述排水槽(7)通过数个漏水孔(18)与所述淡水槽(11)相通,所述漏水孔(18)设置在所述淡水槽(11)底部并且介于所述中心柱(19)外缘和所述挡液板(16)内缘之间; 位于所述真空蒸发室(4)的壳体上方的热海水进口(21),所述热海水进口(21)与雾化器(15)相连,所述热海水进口(21)与所述真空蒸发室(4)的壳体之间设置静密封(22); 位于所述真空蒸发室(4)的壳体侧面的浓海水出口(9),位于所述浓海水出口(9)处的第一导流片(8); 穿过所述静盘(14)和所述真空蒸发室(4)的壳体而设置的水蒸气出口(23);以及 设置在所述真空蒸发室(4)底部的第一排污口(24)。
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