一种多层金属光栅的制备方法

摘要

本发明涉及一种多层金属光栅的制备方法，包括步骤：制备或选取压印模板；在衬底上表面旋涂压一层压印胶；在压印胶的表面镀一金属层；在金属层上表面涂一层保护膜；将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印；对压印胶进行固化处理后，移去压印模版，得到双层或多层金属光栅。本发明不仅省略了图形转移的步骤，工艺更简单，成本更低廉，而且由上述方法得到的金属膜不会包覆于图形侧壁而影响透射效率，其截面与压印模具截面形貌严格吻合，与采用传统方法相比，图形的保真度和光栅的TM透射率及偏振抑制比都更高。

主权项

一种多层金属光栅的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：1）制备或选取压印模板；2）在衬底上表面旋涂压一层压印胶；3）在压印胶的表面镀一金属层；4）在金属层上表面涂一层保护膜；5）将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印；6）对压印胶进行固化处理后，移去压印模具。