发明名称 Photoresist composition for negative development and pattern forming method using thereof
摘要
申请公布号 GB201307732(D0) 申请公布日期 2013.06.12
申请号 GB20130007732 申请日期 2011.10.21
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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