一种直列多靶磁控溅射镀膜装置

摘要

一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，涉及溅射镀膜技术领域。系采用长宽比大于3的矩形溅射靶，在箱式真空室中，将3个以上的矩形溅射靶平行共轴排成一列，所有靶的宽度方向都平行于真空室的长边，靶间距小于矩形靶宽度的2倍。矩形溅射靶上方设置有直线运动结构，基片架和基片加热器固定于直线运动机构之上，并在步进电机的驱动下沿真空室的长边作直线往复运动，直线往复运动的起始点、终止点和运动速度由一个控制器进行编程设置，从而实现单层、多层、周期性重复结构薄膜的制备。该多靶磁控溅射台具有真空室尺寸和靶的尺寸都较小，而所制备的薄膜的均匀面积较大的特点，并且还兼有抽气速度快、镀膜效率高等其他优点。

主权项

一种直列多靶磁控溅射镀膜装置，包括1个真空室，真空室内设置有n个矩形溅射靶3、1个基片架、1个基片加热器、1个直线运动机构，真空室外具有1个步进电机；其特征在于，所述真空室为箱式真空室，n个矩形溅射靶相互平行并共轴排成一列，靶间距小于矩形靶宽度的2倍，所有矩形溅射靶的宽度方向都平行于真空室的长边；矩形溅射靶上方设置有一个直线运动结构，基片架和基片加热器固定于直线运动机构之上，并在步进电机的驱动下能够沿真空室的长边作直线往复运动，直线往复运动的起始点、终止点和运动速度由一个控制器进行编程设置，其最大行程覆盖了所有矩形溅射靶。