选择性抛光碳化矽薄膜之方法

摘要

本发明提供一种用于自基板表面较二氧化矽优先地选择性移除碳化矽之方法。该方法包括用一抛光组合物研磨基板之一表面，该抛光组合物包括一粒状研磨剂、至少一酸性缓冲剂及一含水载剂。