发明名称 薄膜图案层制造方法及紫外光源装置
摘要 本发明涉及一种薄膜图案层制造方法,其包括以下步骤:提供一基板,其表面具有复数分隔墙,该复数分隔墙间形成复数收容空间,该收容空间排列于基板上;提供一紫外光线,利用该紫外光线照射该复数分隔墙,该紫外光线之照射方向与该分隔墙之顶部表面之夹角θ范围如下:5°<θ<80°;填充墨水至该复数收容空间内;及固化墨水以形成薄膜图案层。该紫外光线与分隔墙之顶部表面之夹角使墨水与分隔墙顶部之润湿性能降低,从而减少相邻收容空间内墨水之混色。本发明还涉及一种提供所述紫外光线之紫外光源装置。
申请公布号 TWI398904 申请公布日期 2013.06.11
申请号 TW096113927 申请日期 2007.04.20
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 王宇宁
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址 新北市土城区自由街2号