| 发明名称 | 成像方法 | ||
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种成像方法，在基底上覆盖含有光酸发生剂的光胶面；对所述第一光胶面进行光辐射；完成上述步骤后，对所述基底涂敷含有可以与酸发生反应的交联剂膜；所述光胶面与所述交联剂层之间添加催化剂使发生交联反应，生成交联层；所述交联层与所述光交面构成光刻胶图形。采用本发明，可以节约成本同时提高成像精确度。 | ||
| 申请公布号 | CN103135336A | 申请公布日期 | 2013.06.05 |
| 申请号 | CN201110376257.3 | 申请日期 | 2011.11.24 |
| 申请人 | 林振慧 | 发明人 | 林振慧 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人 | 温旭 |
| 主权项 | 一种成像方法，其特征在于，包括： 在基底上覆盖含有光酸发生剂的光胶面； 对所述第一光胶面进行光辐射； 完成上述步骤后，对所述基底涂敷含有可以与酸发生反应的交联剂膜； 所述光胶面与所述交联剂层之间添加催化剂使发生交联反应，生成交联 层； 所述交联层与所述光交面构成光刻胶图形。 | ||
| 地址 | 515041 广东省汕头市金平区华坞新村 | ||