| 摘要 |
一种使用正负反转之光阻图型之形成方法，其特征为包含，将含有具有具酸不稳定基之重复单位的可溶于硷性显影液之树脂、光酸产生剂或光酸产生剂与热酸产生剂，及有机溶剂之化学增幅正型光阻膜形成用组成物涂布于被加工基板上，经预烧焙以形成光阻膜之步骤；对该光阻膜照射高能量线、曝光后加热，使曝光部之树脂的酸不稳定基进行解离反应后，以硷性显影液显影以制得正型图型之步骤；对正型图型曝光或加热，使上述树脂之酸不稳定基解离而提高硷溶解性，且使该树脂形成交联，赋予对反转用膜形成用组成物所使用之有机溶剂耐性之步骤；使用反转用膜形成用组成物形成反转用膜之步骤；将正型图型以硷性湿式蚀刻液予以溶解去除之步骤。;依本发明之内容，可在不会对正型光阻图型造成伤害下，于其间隙埋入反转用膜材料，可以简易之步骤进行高精确度之正负反转。 |
