发明名称 |
用作磷光材料的主体材料 |
摘要 |
本发明是用作磷光材料的主体材料。记载了新的芳基硅和芳基锗主体材料。这些化合物当用作OLED的发射层中的主体时改进OLED器件性能。 |
申请公布号 |
CN103122007A |
申请公布日期 |
2013.05.29 |
申请号 |
CN201210543903.5 |
申请日期 |
2012.07.27 |
申请人 |
通用显示公司 |
发明人 |
曾礼昌;A·B·黛特金;G·考塔斯;夏传军;D·Z·李 |
分类号 |
C07F7/10(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I |
主分类号 |
C07F7/10(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
杨勇 |
主权项 |
1.式I的化合物,其包含:<img file="FSA00000824090900011.GIF" wi="387" he="148" />式I,其中Ar和Ar’独立地选自苯基、联苯基、萘基、二苯并噻吩和二苯并呋喃,其任选地进一步被取代;其中Z选自Si和Ge;其中L为单键或包含芳基、氨基或其组合;其中L任选地进一步被取代;其中A为直接连接于Z的基团,并选自二苯并呋喃、二苯并噻吩、氮杂二苯并呋喃、氮杂二苯并噻吩、二苯并硒吩、氮杂二苯并硒吩及其组合,其任选地进一步被选自以下的至少一种的基团所取代:氢、氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、芳烷基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳硒基、吡啶、三嗪、咪唑、苯并咪唑、腈、异腈及其组合,并且其中该取代任选地稠合于直接连接于Z的基团;并且其中B包含选自以下的基团:咔唑、氮杂咔唑及其组合,其任选地进一步被至少一个选自以下的基团所取代:氢、氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、甲硅烷基、烯基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基、酰基、羰基、羧酸、酯、腈、异腈、硫基、亚磺酰基、磺酰基、膦基及其组合,且其中该取状任选地稠合于咔唑或氮杂咔唑基团。 |
地址 |
美国新泽西州 |