| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zum Erzeugen einer Beschichtungsschicht unter Verwenden von Plasma, welches ein Erwärmen, das Aufbringen einer Pufferschicht, ein Beschichten und ein Abkühlen umfasst, umfasst ein Verfahren zum Erzeugen einer friktionsarmen Beschichtungsschicht: einen Schritt des Beschichtens, um eine TiAgN-Beschichtungsschicht auf der Oberfläche eines Grundmaterials unter Verwenden einer Ti-Lichtbogenquelle und einer Ag-Sputterquelle bei einer bestimmten Beschichtungstemperatur zu bilden; einen Schritt des Erhöhens eines Anteils, um den Anteil an Ag auf der Oberfläche durch Erhöhen der Vorspannung und der Sputterleistung für einen bestimmten Zeitraum zu erhöhen, und einen Schritt des Bildens nanogroßer Partikel, um Ag-Nanopartikel auf der Oberfläche zu bilden, indem die Temperatur für einen bestimmten Zeitraum um 50–100°C über der bestimmten Beschichtungstemperatur aufrecht erhalten wird.</p> |
