发明名称 |
微细结构体检查方法、微细结构体检查装置 |
摘要 |
一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 |
申请公布号 |
CN101978241B |
申请公布日期 |
2013.05.29 |
申请号 |
CN200980109275.6 |
申请日期 |
2009.03.19 |
申请人 |
凸版印刷株式会社 |
发明人 |
米仓勋;波木井秀充 |
分类号 |
G01B15/00(2006.01)I;G01N23/225(2006.01)I;H01J37/22(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
G01B15/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
郭晓东;马少东 |
主权项 |
一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序,所述多个SEM条件具有彼此不同的电子束的电流值或彼此不同的光电倍增管的放大值;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;拍摄具有已知侧壁角度的多个标准微细结构图案的SEM照片或者使用SEM模拟器,计算出基准变化量的工序,该基准变化量为每单位度数的侧壁角度的白色带宽度的变化量;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量和所述基准变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 |
地址 |
日本国东京都 |