有机EL装置的制造方法

摘要

本发明涉及有机EL装置的制造方法。在所述有机EL装置的制造方法中，在有机化合物层上形成掩模层，并且，通过干蚀刻将没有被掩模层覆盖的区域构图，其中，通过使用无机化合物形成电荷注入层，该无机化合物关于用于有机化合物层的构图的蚀刻气体具有低的蚀刻速度并且该无机化合物即使暴露于蚀刻气体时也不分解。

主权项

一种有机EL装置的制造方法，所述有机EL装置包括第一电极、第二电极、以及夹在第一电极与第二电极之间的电荷注入层和有机化合物层，该方法包括：通过真空成膜处理在第一电极上形成由无机化合物构成的电荷注入层的步骤（i）；在电荷注入层上形成第一有机化合物层的步骤（ii）；在第一有机化合物层上的预定区域中选择性地形成掩模层的步骤（iii）；通过利用干蚀刻去除不具有掩模层的区域中的第一有机化合物层而使电荷注入层露出的步骤（iv）；在露出的电荷注入层上形成第二有机化合物层的步骤（v）；和在第一有机化合物层和第二有机化合物层上形成第二电极的步骤（vi）。