发明名称 一种高响应的DIP整流桥的工艺
摘要 本发明公开了一种高响应的DIP整流桥的制作工艺,其特征在于:主要为框架退火、刷胶组装、焊接三个步骤。所述框架退火工艺为:将框架通过通有氮气的焊接炉(Tpeak=440-460℃)退火。所述刷胶组装工艺为:利用丝网印刷,将锡膏印刷至框架工艺设计区域,再将芯片通过吸盘分向,并用吸笔转换至已经印刷锡膏的框架工艺设计区域。所述焊接工艺为:将组装完成的材料放进石墨舟通过焊接炉(Tpeak=350-360℃)使芯片与框架焊接在一起。本发明所得的产品,经检测,芯片表面为金属-半导体直接接触,故频率高,反向恢复时间短,Trr≤15ns,可靠性能好。
申请公布号 CN103117230A 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN201210412773.1 申请日期 2012.10.25
申请人 南通康比电子有限公司 发明人 曹孙根;李国良
分类号 H01L21/52(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I 主分类号 H01L21/52(2006.01)I
代理机构 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人 滑春生
主权项 一种高响应的DIP整流桥的制作工艺,其特征在于:主要为框架退火、刷胶组装、焊接三个步骤;所述框架退火工艺为:将框架通过通有氮气的焊接炉Tpeak=440‑460℃的条件下退火,目的是将框架通过高温退火,使框架变软,减少应力;所述刷胶组装工艺为:利用丝网印刷,将锡膏印刷至框架工艺设计区域,再将芯片通过吸盘分向,并用吸笔转换至已经印刷锡膏的框架工艺设计区域;所述焊接工艺为:将组装完成的材料放进石墨舟通过焊接炉Tpeak=350‑360℃的条件下使芯片与框架焊接在一起。
地址 226500 江苏省南通市如皋市如城镇工业园区兴园路8号