发明名称 带升降式对中装置的离心机
摘要 本发明涉及半导体领域,具体为一种带升降式对中装置的离心机,它是在半导体工业中,需要旋转加工的时候所使用的离心机。该离心机的真空吸盘外侧设置可升降的对中装置,放置晶片时,晶片置于对中装置内侧,对中装置在上位,晶片背面与真空吸盘接触,真空吸盘与磁流体密封装置相连。当工艺要求对中要求较高时,可以使用本发明的离心机,保证晶片中心和离心机的旋转中心一致,消除晶片和离心机中心不一致对胶膜均匀性产生的影响。本发明使用升降式对中,没有横向位移,可以提高对中精度,离心机部分固定在本体上不动,这样就提高了离心机的稳定性,减少了震动,同时,由于只有一个对中的上下动作,能节约机构运动的时间,提高设备产能。
申请公布号 CN102151643B 申请公布日期 2013.05.22
申请号 CN201010565644.7 申请日期 2010.11.30
申请人 沈阳芯源微电子设备有限公司 发明人 王冲
分类号 B05C11/08(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I 主分类号 B05C11/08(2006.01)I
代理机构 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人 张志伟
主权项 一种带升降式对中装置的离心机,其特征在于:该离心机的真空吸盘外侧设置可升降的对中装置,放置晶片时,晶片置于对中装置内侧,对中装置在上位,晶片背面与真空吸盘接触,真空吸盘与磁流体密封装置相连;所述离心机还设有轴套,底座内侧依次设置无油衬套、轴套和磁流体密封装置,轴套位于磁流体密封装置与无油衬套之间,对中装置位于可沿磁流体密封装置和无油衬套上下滑动的轴套上。
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