发明名称 |
单体沉积设备 |
摘要 |
提供一种单体沉积设备,所述单体沉积设备在将单体沉积在基板上时最小化单体在基板周围的构件上的沉积。为此,所述单体沉积设备包括:限定有处理空间的腔室,基板在所述处理空间中被处理;以及沉积单元,该沉积单元的至少一部分被收纳在所述腔室中,且所述沉积单元与所述基板隔开预定距离以将单体排放到基板上。所述单体沉积设备还包括冷却板,该冷却板邻近于所述沉积单元的外周设置而不与单体的排放干涉,所述冷却板与基板隔开预定距离以冷却未被沉积在基板上的单体。因此,由于未被沉积在基板上的单体被冷却板冷却,因此可以使单体蒸气在基板周围的构件上的沉积最小化。因此,由于可延长日常维护周期,从而特别地可提高生产率且可降低制造成本。 |
申请公布号 |
CN103119745A |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201080069179.6 |
申请日期 |
2010.09.29 |
申请人 |
SNU 精密股份有限公司 |
发明人 |
尹亨硕;南宫晟泰;李泰成;朴一濬 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
党晓林;王小东 |
主权项 |
一种单体沉积设备,所述单体沉积设备包括:具有处理空间的腔室,基板在所述处理空间中被处理;以及沉积单元,所述沉积单元的至少一部分被收纳在所述腔室中,并且所述沉积单元设置成与所述基板隔开预定距离并构造成将单体排放到所述基板,所述单体沉积设备还包括:冷却板,所述冷却板邻近于所述沉积单元设置而不与单体的排放干涉,并且所述冷却板设置成与所述基板隔开预定距离并构造成使未被沉积在所述基板上的单体冷却以被凝结。 |
地址 |
韩国首尔 |