发明名称 |
低温烧结的高介电常数微波介电陶瓷及制备方法 |
摘要 |
低温烧结的高介电常数微波介电陶瓷及制备方法,涉及电子材料技术。本发明以原料计算,组分为:氧化钡:15%~18%;三氧化二钕:10%~36%;三氧化二钐:0%~26%;二氧化钛:30%~35%;氧化锌:0%~2%;三氧化二铝:0%~3%;氧化钙:0%~3%;碳酸锂:0%~5%;二氧化硅:0%~5%;三氧化二硼:0%~4%;微量添加物:0%~5%;以上为重量百分比。本发明性能上有较大提升,传统配方在降低烧结温度的同时,介电常数降低(53~65),Qf减小。 |
申请公布号 |
CN103113105A |
申请公布日期 |
2013.05.22 |
申请号 |
CN201310018624.1 |
申请日期 |
2013.01.18 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
周晓华;李恩竹;张树人 |
分类号 |
C04B35/50(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/50(2006.01)I |
代理机构 |
成都惠迪专利事务所 51215 |
代理人 |
刘勋 |
主权项 |
低温烧结的高介电常数微波介电陶瓷,以原料计算,组分为:氧化钡:15%~18% 三氧化二钕:10%~36%三氧化二钐:0%~26% 氧化钛:30%~35%氧化锌:0%~2% 三氧化二铝:0%~3%氧化钙:0%~3% 碳酸锂:0%~5%二氧化硅:0%~5% 三氧化二硼:0%~4%微量添加物:0%~5%以上为重量百分比。 |
地址 |
610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |