发明名称 加热炉
摘要 一种加热炉,包含有一加热腔体、复数加热件、两轨道以及一置放架。该加热腔体具有一腔体内表面,该些加热件均匀间隔设置于该腔体内表面,该两轨道间隔设置于该腔体内表面,且该两轨道之间设置有该些加热件,该置放架包含有两分别对应该两轨道的滑移部,以及一设置于该滑移部远离该轨道一侧的容置槽,该容置槽用以容置至少一待加热物。位于该两轨道之间的加热件可利用该两轨道之间的间隔而直接将其发出之热能藉由热辐射、热传导以及热对流的方式传递至该置放架,使该置放架内的待加热物可均匀受热,以符合使用需求。
申请公布号 TWM453956 申请公布日期 2013.05.21
申请号 TW102201494 申请日期 2013.01.23
申请人 富强半导体有限公司 苗栗县头份镇东民六街42号 发明人 余常晖;曾文正
分类号 H01L21/67;H01L21/324 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项
地址 苗栗县头份镇东民六街42号