发明名称 光罩、曝光方法、光罩之制造方法、半透相移光罩之制造方法
摘要 本发明提供一种光罩,能够在使用此光罩时防止异物产生,而本发明还提供一种使用此光罩的曝光方法。该光罩包含透明基板2;形成在透明基板2部分之主要区域3的转移图案4;在主要区域3的外围区域,提供临近主要区域3之光遮蔽带区域5;及藉由黏着剂8a,将薄膜膜层6a黏着到薄膜架6b形成之薄膜6,其中此薄膜6系透过黏着剂8b黏着在光遮蔽区域7之上,而光遮蔽区域7系由形成在主要区域3的外围区域之光遮蔽膜构成。
申请公布号 TWI396933 申请公布日期 2013.05.21
申请号 TW096117325 申请日期 2007.05.16
申请人 HOYA股份有限公司 日本;松下电器产业股份有限公司 日本 发明人 宅岛克宏;安井孝史
分类号 G03F1/00;H01L21/027 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本