发明名称 |
投影曝光系统与最佳成像平面位置及投影倍率的检测方法 |
摘要 |
一种投影曝光系统,适用于将一光罩之图案成像转移至一基板上,该投影曝光系统包含:一曝光光源、一光罩载台、一基板载台、一投影镜头、一成像检测装置及一对焦感测器。该投影镜头设于该光罩载台与该基板载台之间,具有一光罩投影工作区域。该成像检测装置包括一设于该光罩载台与该投影镜头之间的像产生单元,及一设于该投影镜头与该基板载台之间的像检测单元,该像产生单元通过该投影镜头的该光罩投影工作区域之外的区域成像于该像检测单元。该对焦感测器用以感测该基板表面与该投影镜头的距离。 |
申请公布号 |
TWI396948 |
申请公布日期 |
2013.05.21 |
申请号 |
TW097111982 |
申请日期 |
2008.04.02 |
申请人 |
统联科学生产力中心 白俄罗斯;志圣工业股份有限公司 新北市林口区工二工业区工八路2之1号 |
发明人 |
亚盖泉克A.S. AGEICHENKO A.S. BY;玛济许可夫V.E. MATIUSHKOV V.E. BY;梁茂生;高启清;帝斯瀚区克 海瑞 |
分类号 |
G03F7/207 |
主分类号 |
G03F7/207 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
新北市林口区工二工业区工八路2之1号 |