用于快速热处理腔室的透明反射板

摘要

本发明一般涉及用于处理基板的方法和设备。本发明的实施例包括用于处理包括陶瓷反射板的设备，该陶瓷反射板可为光学地透明。反射板可包括反射涂层，且反射板为反射板组件的一部分，其中反射板组设至底板。

主权项

一种用于处理基板的设备，所述基板具有前侧和后侧，所述设备包括：处理区，所述处理区位于腔室内，所述腔室由邻近辐射加热源的窗口而限定于一侧上，所述辐射加热源位于所述处理区的外侧；及反射板，所述反射板相对所述辐射加热源而设置，所述反射板包括由陶瓷材料所制成的主体和位于所述反射板的一侧上的反射涂层，和延伸经过至少所述反射涂层的多个孔。