用于膜均匀性的旋转温控基板底座

摘要

描述了一种基板处理系统。该系统包括处理室和至少部分地设置在室内的基板支撑组件。该基板支撑组件可通过马达旋转，也允许电、冷却流体、气体和真空从处理室外部的非旋转源传送到处理室内部的旋转基板支撑组件。冷却流体和电连接用于升高或降低由基板支撑组件支撑的基板温度。电连接也能用于静电夹持晶片至支撑组件。一个或多个旋转密封(旋转密封可以是低摩擦O型环)可用于保持处理压力同时仍允许基板组件旋转。真空泵可连接到用于夹持晶片的端口。该泵也可用于当存在两对以上旋转密封时差动泵送一对旋转密封之间的区域。

主权项

一种半导体处理系统，包括：处理室，具有能保持从外部室压力密封的内部室压力的内部；泵送系统，连接到所述处理室且适合于从所述处理室移走材料；基板支撑组件，包括：适合于在所述处理室的所述内部中支撑基板的基板支撑部件，和以旋转固定方式连接到所述基板支撑部件的基板支撑轴，所述基板支撑轴构造成相对于所述处理室旋转；马达，连接到所述基板支撑轴且以1RPM和2000RPM之间的旋转速度旋转所述基板支撑组件；至少一个旋转密封，连接在所述基板支撑轴和所述处理室之间，即使在所述基板支撑组件旋转时，所述旋转密封也从外部室压力密封内部室压力；至少一个旋转液压联轴节，被构造成在处理室中的至少一个静止通道和至少一个旋转通道之间传导流体，其中所述至少一个旋转液压联轴节还被构造成提供气体的驱动压力到一个或多个锁位的柱塞，所述一个或多个锁位的柱塞升高所述基板支撑部件的一侧；和旋转电引线，被构成为将电流在处理室外部的至少一个静止导体和处理室内部的至少一个可旋转导体之间传导。