发明名称 确定对CAR/PEB对于光刻胶轮廓的影响进行建模的过程模型
摘要 一种实施方式提供用于确定过程模型的系统和技术。操作期间,该系统可以接收对光刻过程的第一光学系统进行建模的第一光学模型。接下来,该系统可以使用第一光学模型来确定第二光学模型,该第二光学模型对通过第一光学系统在第二距离处形成的第二潜在像进行建模。该系统也可以使用第一光学模型来确定第三光学模型,该第三光学模型对通过第一光学系统在第三距离处形成的第三潜在像进行建模。接下来,该系统可以接收通过使得测试布局接受光刻过程而得到的过程数据。该系统于是可以利用所述第一光学模型、第二光学模型、第三光学模型、测试布局和过程数据来确定过程模型。
申请公布号 CN101675389B 申请公布日期 2013.05.15
申请号 CN200780052546.X 申请日期 2007.12.27
申请人 新思科技有限公司 发明人 J·黄;C-c·库奥;L·S·梅尔文三世
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 王茂华;陈宇萱
主权项 一种用于确定过程模型的方法,该方法包括:接收对光刻过程的第一光学系统进行建模的第一光学模型;使用该第一光学模型来确定第二光学模型,该第二光学模型对通过该第一光学系统在第二距离处形成的第二潜像进行建模;使用该第一光学模型来确定第三光学模型,该第三光学模型对通过该第一光学系统在第三距离处形成的第三潜像进行建模;接收通过使得测试布局接受光刻过程而得到的过程数据;确定未校准的过程模型;以及利用所述过程数据拟合所述未校准的过程模型;其中所述第二距离、所述第三距离和所述第一光学系统的最佳焦点距离互不相同,其中确定所述未校准过程模型包括:对第二光学模型与第二Gaussian内核进行卷积以得到第二扩散模型;对第三光学模型与第三Gaussian内核进行卷积以得到第三扩散模型;以及利用所述第一光学模型、以及第二扩散模型和第三扩散模型中的至少一个来确定所述未校准过程模型。
地址 美国加利福尼亚州