发明名称 坏点修正方法与装置
摘要 本发明实施例揭露一种坏点修正方法,其适用于互补金属氧化物半导体图像传感器,包括:检测所述互补金属氧化物半导体图像传感器的多个坏点区域,每个所述坏点区域包含至少一个坏点;将每个所述坏点区域的中心像素的坐标储存于单次烧录存储器;从所述单次烧录存储器读取所述中心像素的坐标;产生每个所述中心像素的多个周围像素的坐标;读取所述互补金属氧化物半导体图像传感器所撷取的图像;以及对所述图像中与所述中心像素以及所述周围像素的坐标相符的多个像素进行坏点修正。
申请公布号 CN103106927A 申请公布日期 2013.05.15
申请号 CN201110361947.1 申请日期 2011.11.15
申请人 恒景科技股份有限公司 发明人 蔡易霖;彭源智
分类号 G11C29/44(2006.01)I;H04N5/367(2011.01)I 主分类号 G11C29/44(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 舒雄文;蹇炜
主权项 一种坏点修正方法,适用于互补金属氧化物半导体图像传感器,包括:检测所述互补金属氧化物半导体图像传感器的多个坏点区域,每个所述坏点区域包含至少一个坏点;将每个所述坏点区域的中心像素的坐标储存于单次烧录存储器;从所述单次烧录存储器读取所述中心像素的坐标;产生每个所述中心像素的多个周围像素的坐标;读取所述互补金属氧化物半导体图像传感器所撷取的图像;以及对所述图像中与所述中心像素以及所述周围像素的坐标相符的多个像素进行坏点修正。
地址 中国台湾台南市