发明名称 用于制造分割光学结构的方法
摘要 本发明涉及一种用于制造分割光学结构(100)的方法,该方法至少包括以下步骤:a)提供基板(1),在所述基板的表面(3)中的一个表面上具有微壁(2),当沿着垂直于所述表面的轴线(X)观测基板(1)时,所述微壁形成多个同轴凹口(5);b)在至少一个凹口(5)中沉积至少一种材料(10;10a;10b;10c);c)使步骤b)中沉积的材料(10;10a;10b;10c)的上表面(11)的至少一部分与至少一种液体介质(30)接触,所述至少一种液体介质能够溶解材料(10;10a;10b;10c)并且基本上相对于微壁(2)和基板(1)是惰性的;以及d)向在步骤c)中沉积的液体介质(30)施加离心力,从而修改其在步骤b)中沉积的材料(10;10a;10b;10c)的上表面(11)上的分布,在步骤c)中使用的液体介质(30)的量能够部分地溶解在步骤b)中产生的沉积。
申请公布号 CN103108742A 申请公布日期 2013.05.15
申请号 CN201180044366.3 申请日期 2011.09.09
申请人 原子能与替代能源委员会 发明人 奥利维尔·德莱;帕斯卡·弗吉尔
分类号 B29D11/00(2006.01)I;G02B3/08(2006.01)I 主分类号 B29D11/00(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 经志强;王朋飞
主权项 一种用于制造分割光学结构(100)的方法,该方法至少包括以下步骤:a)提供基板(1),在所述基板(1)的表面(3)中的一个表面上装配有微壁(2),当沿着垂直于所述表面的轴线(X)观测所述基板(1)时,所述微壁形成多个同轴空隙(5);b)在至少一个空隙(5)中沉积至少一种材料(10;10a;10b;10c);c)使步骤b)中沉积的所述材料(10;10a;10b;10c)的上表面(11)的至少一部分与至少一种液体介质(30相接触,所述液体介质能够溶解所述材料(10;10a;10b;10c)并且基本上相对于所述微壁(2)和基板(1)是惰性的;以及d)向在步骤c)中沉积的液体介质(30)施加离心力,从而修改其在步骤b)中沉积的所述材料(10;10a;10b;10c)的所述上表面(11)上的分布,在步骤c)中使用的液体介质(30)的量能够部分地溶解步骤b)中产生的沉积。
地址 法国巴黎