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<p>제조 공정의 신뢰성을 향상시키기 위한 표시 기판의 제조 방법 및 표시 기판이 개시된다. 표시 기판의 제조 방법은 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이층을 형성하고, 어레이층 상에 패시베이션층을 형성하고, 게이트 배선, 소스 배선 및 박막 트랜지스터에 대응하는 포토레지스트패턴을 마스크로 패시베이션층을 식각하고, 포토레지스트패턴의 표면을 불균일하게 표면 처리하고, 표면 처리된 포토레지스트패턴이 형성된 기판 상에 투명 전극층을 형성하고, 표면 처리된 포토레지스트패턴에 스트립 용액을 침투시키는 방식으로 포토레지스트패턴 및 투명 전극층을 제거하여 화소 전극을 형성한다. 포토레지스트패턴에 불균일한 표면 처리를 함에 따라, 포토레지스트패턴 상에 형성된 투명 전극층에 스트립 용액이 선택적으로 침투하므로, 스트립 용액의 침투공간 확보를 위한 언더 컷 형성을 생략하여도 화소 전극의 패터닝을 용이하게 할 수 있다.</p> |
