| 摘要 |
1. Композиция, содержащая антибактериальную систему, включающую 4-изопропил-3-метилфенол (IPMP), источник ионов цинка и анионное поверхностно-активное вещество.2. Композиция по п.1, которая представляет собой композицию по уходу за полостью рта, содержащую перорально приемлемый носитель или эксципиент.3. Композиция по п.1, где анионное поверхностно-активное вещество представляет собой Салкилсульфат щелочного металла, или Салкиларилсульфонат щелочного металла, или саркозинат щелочного металла, или их смесь.4. Композиция по п.3, где анионный поверхностно-активный агент представляет собой либо SDDBS (додецилбензолсульфонат натрия), SLS (лаурилсульфат натрия), либо лаурилсаркозинат натрия, либо их смесь.5. Композиция по п.1, где источник ионов цинка выбран из хлорида цинка, цитрата цинка, ацетата цинка, сульфата цинка, глюконата цинка, салицилата цинка, лактата цинка, малата цинка, малеата цинка, тартрата цинка, карбоната цинка, фосфата цинка, оксида цинка или сульфата цинка.6. Композиция по п.1, где IPMP присутствует в количестве от 0,01% до 1,0% по массе от общей массы композиции.7. Композиция по п.1, где анионное поверхностно-активное вещество присутствует в количестве от 0,1% до 15% по массе от общей массы композиции.8. Композиция по п.1, где источник ионов цинка, определенный как доля цинка в соответствующей соли, присутствует в количестве от 0,01% до 2,5% по массе от общей массы композиции.9. Композиция по п.1, содержащая источник фторид-ионов.10. Композиции по п.8, где источник фторид-ионов представляет собой фторид натрия.11. Композиция по п.1, содержащая десенсибилизирующий агент.12. Композиция по п.1, содержащая отбеливающий агент.13. Композиция по п |
