发明名称 基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环及其制作方法
摘要 本发明提供一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环的制作方法,包括步骤:提供半导体衬底,其上具有器件区域和围绕器件区域的芯片切割保护环区域;当器件区域中形成器件沟槽时,在芯片切割保护环区域中同步形成环形沟槽;当器件沟槽中淀积栅极材料时,在环形沟槽中也同步淀积栅极材料,并对芯片表面进行回刻,直至器件区域露出半导体衬底;在芯片表面依次形成绝缘介质层和导电金属层,绝缘介质层和导电金属层依次同步填入环形沟槽中,形成芯片切割保护环。相应地,本发明还提供一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环。本发明形成的芯片切割保护环起到标识切割道的作用,同时防止芯片在切割过程中发生裂片,简化了工艺流程,降低了生产成本。
申请公布号 CN102184843B 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN201110087251.4 申请日期 2011.04.08
申请人 上海先进半导体制造股份有限公司 发明人 陶有飞
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陈亮
主权项 一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环的制作方法,包括步骤:提供半导体衬底,其上具有器件区域和围绕所述器件区域的芯片切割保护环区域;当所述器件区域中形成器件沟槽时,在所述芯片切割保护环区域中同步形成环形沟槽;当所述器件沟槽中淀积栅极材料时,在所述环形沟槽中也同步淀积所述栅极材料,并对芯片表面进行回刻,直至所述器件区域露出半导体衬底;在所述芯片表面依次形成绝缘介质层和导电金属层,所述绝缘介质层和导电金属层依次同步填入所述环形沟槽中,形成所述芯片切割保护环。
地址 200233 上海市虹漕路385号