发明名称 |
基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环的制作方法,包括步骤:提供半导体衬底,其上具有器件区域和围绕器件区域的芯片切割保护环区域;当器件区域中形成器件沟槽时,在芯片切割保护环区域中同步形成环形沟槽;当器件沟槽中淀积栅极材料时,在环形沟槽中也同步淀积栅极材料,并对芯片表面进行回刻,直至器件区域露出半导体衬底;在芯片表面依次形成绝缘介质层和导电金属层,绝缘介质层和导电金属层依次同步填入环形沟槽中,形成芯片切割保护环。相应地,本发明还提供一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环。本发明形成的芯片切割保护环起到标识切割道的作用,同时防止芯片在切割过程中发生裂片,简化了工艺流程,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN102184843B |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201110087251.4 |
申请日期 |
2011.04.08 |
申请人 |
上海先进半导体制造股份有限公司 |
发明人 |
陶有飞 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陈亮 |
主权项 |
一种基于沟槽MOSFET的二极管的芯片切割保护环的制作方法,包括步骤:提供半导体衬底,其上具有器件区域和围绕所述器件区域的芯片切割保护环区域;当所述器件区域中形成器件沟槽时,在所述芯片切割保护环区域中同步形成环形沟槽;当所述器件沟槽中淀积栅极材料时,在所述环形沟槽中也同步淀积所述栅极材料,并对芯片表面进行回刻,直至所述器件区域露出半导体衬底;在所述芯片表面依次形成绝缘介质层和导电金属层,所述绝缘介质层和导电金属层依次同步填入所述环形沟槽中,形成所述芯片切割保护环。 |
地址 |
200233 上海市虹漕路385号 |