发明名称 包括选择/差分阈值电压特征的非易失性存储器感测的系统和方法
摘要 公开了用于经由具有差分阈值电压的MOS晶体管的使用来提供选择性阈值电压特性的系统和方法。在一个示例性实施例中,提供了一种金属氧化物半导体器件,其包括具有源极区、漏极区和在其之间的沟道区、在所述沟道区之上的绝缘层,以及所述绝缘层的栅极部分的半导体材料的衬底。此外,关于该器件,绝缘层的形状和/或结区的形状或注入具有在栅极至漏极与栅极至源极结之间的变化维度,以在其之间提供差分阈值电压。
申请公布号 CN103098137A 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN201180016681.5 申请日期 2011.03.30
申请人 硅存储技术公司 发明人 H.V.特伦;S.萨哈
分类号 G11C11/34(2006.01)I;G11C16/06(2006.01)I 主分类号 G11C11/34(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 马红梅;卢江
主权项 一种感测电路,包括:基准列,包括基准电压节点、基准存储器存储单元、第一MOS晶体管以及第一差分阈值MOS晶体管;以及多个数据列,每个被耦合到各数据电压节点,与所述基准列并联,其中,每个数据列包括数据存储器存储单元、第二MOS晶体管以及第二差分阈值MOS晶体管;其中,所述差分阈值晶体管中的一个或多个是每个具有与栅极至漏极阈值电压不同的栅极至源极阈值电压的晶体管。
地址 美国加利福尼亚州