| 发明名称 | 高金刚烷衍生物、其制备方法及光致抗蚀剂用感光性材料 | ||
| 摘要 | 下式(I)表示的高金刚烷衍生物，式中R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>分别表示氢原子或碳数1～6的直链状、分支状或环状的烃基，X表示羟基或卤原子，n、m分别为0～3的整数。不过，n与m不能同时为0。<img file="DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="360" he="104" /> | ||
| 申请公布号 | CN103097371A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201180016648.2 | 申请日期 | 2011.03.16 |
| 申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 田中慎司;上野山义崇;大野英俊;河野直弥;伊藤克树 |
| 分类号 | C07D313/10(2006.01)I;C08F20/26(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | C07D313/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 孔青;庞立志 |
| 主权项 | 1. 下式(I)表示的高金刚烷衍生物：<img file="2011800166482100001DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="377" he="118" />式中，R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>分别表示氢原子或碳数1～6的直链状、分支状或环状的烃基，X表示羟基或卤原子，n、m分别为0～3的整数，不过n与m不能同时为0。 | ||
| 地址 | 日本东京都千代田区丸之内３丁目１番１号 | ||