发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS
摘要 <p>본 고안은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 기판이 안착되며, 판면이 관통된 복수의 핀 통과공이 형성된 기판 플레이트; 상기 각 핀 통과공을 통과하여 상기 기판 플레이트의 승강 이동에 따라 상기 기판을 승강 이동시키는 복수의 리프트 핀; 및 상기 복수의 리프트 핀의 하부를 지지하며, 상기 복수의 리프트 핀 중 적어도 어느 하나의 하강 이동에 동기되어 나머지 상기 리프트 핀 중 적어도 어느 하나가 상승 이동하도록 상기 복수의 리프트 핀의 하부를 지지하는 핀 지지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 핀 지지 유닛이 복수의 리프트 핀 중 적어도 어느 하나의 하강 이동에 동기되어 나머지 상기 리프트 핀 중 적어도 어느 하나가 상승 이동하도록 복수의 리프트 핀 하부를 지지함으로써, 기판이 리프트 핀에 안착될 때 기판이 미끄러지는 현상을 방지할 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR200466814(Y1) 申请公布日期 2013.05.08
申请号 KR20110009643U 申请日期 2011.10.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/683 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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