用于处理已成像的印版的方法

摘要

本发明涉及一种用于处理已成像的、尤其是用两亲分子或用聚合物例如糖类覆盖的印版的方法，其中，在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质、尤其是显微上胶物质涂层，其特征在于：在一个与直到平版印刷的液体、例如润湿剂或印刷油墨涂覆到该表面上的时间段相比短的或可忽略的时间段之后将该上胶物质去除(140)或减少，直到留下一个保留的纳米级的覆盖层。上胶物质的去除或减少优选在仍为液体的状态下、即在所涂覆的上胶物质干燥之前并且优选直接在涂覆之后进行。保留的上胶物质涂层保护印版免受污染并且提高亲水性-疏水性对比度。

主权项

用于处理已成像的印版的方法，该方法包括如下步骤：使用涂覆辊在该印版上涂覆上胶物质溶液的步骤；通过用水冲洗将该上胶物质除去直到留下一个覆盖层的步骤；以及通过同一涂覆辊在该印版的表面上在压力下滚压而挤出水分来干燥该印版的步骤。