集成的曝光后烘烤轨道

摘要

本发明公开了一种集成的曝光后烘烤的轨道，还公开了用以处理晶片的系统和方法，组合的曝光后烘烤和冷却单元，以及接口。示例性系统包括光刻工具、本地轨道、传送装置、传送装置处理机、接口单元和用于规划处理过程的控制器。示例性的组合的曝光后烘烤和冷却单元包括在其侧面上有开口的外壳，以及外壳中的烘烤单元和冷却单元。示例性的接口包括多个设置在机械手周围的外壳，其中机械手用以在外壳间传送晶片，多个外壳中的一个是集成的烘烤和冷却单元。

主权项

一种晶片处理系统，包括：光刻工具；与该光刻工具连接的本地轨道部件，光刻中的时间关键工艺包括在所述本地轨道部件中；远程轨道部件，光刻中的非关键或较不关键工艺设置在所述远程轨道部件中；传送装置处理机，用于操作传送装置以及从传送装置传送晶片和将晶片传送至传送装置；接口单元，用于在传送装置处理机和光刻工具、光刻工具和本地轨道部件以及本地轨道部件和传送装置处理机中的一组或多组之间传送晶片；以及控制器，用于规划在光刻工具、本地轨道部件、接口单元和传送装置处理机中的处理。