| 发明名称 | 等离子体处理装置以及等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 公开了等离子体处理装置，包括：环状的腔室，其由电介质部件包围，且具备作为等离子体喷出口的开口部；气体供给配管，其用于向腔室的内部导入气体；线圈，其设置在腔室的附近；高频电源，其连接于线圈；以及基材载置台。 | ||
| 申请公布号 | CN103094038A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201210413158.2 | 申请日期 | 2012.10.25 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 奥村智洋;川浦广;幸本彻哉 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张劲松 |
| 主权项 | 等离子体处理装置，包括：环状的腔室，其由电介质部件包围，且具备作为等离子体喷出口的开口部；气体供给配管，其用于向所述腔室的内部导入气体；线圈，其设置在所述腔室的附近；高频电源，其连接于所述线圈；以及基材载置台。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||