发明名称 METHOD FOR PRODUCING ITO SINTERED BODY AND METHOD FOR PRODUCING ITO SPUTTERING TARGET
摘要 <p>고품질인 소결체를 저가로 제조할 수 있는 ITO 소결체의 제조 방법 및 ITO 스퍼터링 타겟의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일실시 형태와 관련되는 ITO 소결체의 제조 방법은, 산화 인듐 및 산화 주석을 주성분으로 하는 소결편군을 용기 내에서 교반하면서 파쇄하는 것으로, 제1 평균 입자 지름을 갖는 제1 ITO 분말을 제작하는 공정을 포함한다. 상기 제1 ITO 분말을 매체교반 밀 또는 제트 밀에 의해 파쇄하는 것으로, 상기 제1 평균 입자 지름 보다 작은 제2 평균 입자 지름을 갖는 제2 ITO 분말이 제작된다. 상기 제2 ITO 분말에 산화 인듐 분말 및 산화 주석 분말을 혼합하고, 그 혼합 분말을 분쇄하는 것으로, 상기 제2 평균 입자 지름 보다 작은 제3 평균 입자 지름을 갖는 제3 ITO 분말이 제작된다. 상기 제3 ITO 분말을 포함한 슬러리를 거푸집에 캐스트 하는 것으로 성형체가 제작된 후, 소결된다.</p>
申请公布号 KR101259713(B1) 申请公布日期 2013.05.06
申请号 KR20117011579 申请日期 2010.10.20
申请人 发明人
分类号 C04B35/00;C04B35/453;C04B35/622;C23C14/34 主分类号 C04B35/00
代理机构 代理人
主权项
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