| 摘要 |
本发明为有关一种于形成有由正型光阻组成物所得之第一之光阻膜所形成之第一之光阻图型的支撑体上，涂布正型光阻组成物以形成第二之光阻膜后，经选择性曝光、硷显影而形成光阻图型之方法中，为形成上述第二之光阻膜所使用之正型光阻组成物，其为含有具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0-1)，与下述通式(a0-2)所表示之结构单位(a0-2)之经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性的树脂成份(A)，与经由曝光而发生酸之酸产生剂成份(B)，与不溶解上述第一之光阻膜之有机溶剂(S)，其中，上述树脂成份(A)与酸产生剂成份(B)溶解于上述有机溶剂(S)。;[化1];(a0-1) (a0-2) |
