发明名称 |
不需添加氢气的积层陶瓷元件之低温共烧制程及其制品 |
摘要 |
一种积层陶瓷元件之低温共烧制程,其使介电陶瓷与铜金属(Cu)于含有保护气体、水气与氧气之混合气氛中,并于控制氧分压下进行烧结反应,由于此制程不需切换气体而可有效缩短制程时间,亦由于此制程中不需添加氢气(H2),因此在制程安全性与成本考量上,更具实用价值。此外,本发明中使用铜金属(Cu)作为主要电极材料,可大幅降低材料成本,并维持极佳的金属导电性。利用此制程所制作出的积层陶瓷电容器,具有低散逸系数、高绝缘阻抗与低介电损失之特性,亦可应用在以铜为导体的积层陶瓷元件,包括电感、滤波器等。 |
申请公布号 |
TWI394736 |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
申请号 |
TW097126376 |
申请日期 |
2008.07.11 |
申请人 |
华新科技股份有限公司 台北市内湖区瑞光路480号10楼 |
发明人 |
朱立文;任云怀;颜政伟;庄朝栋 |
分类号 |
C04B35/65;C04B35/46;H01G4/12;H01G4/30 |
主分类号 |
C04B35/65 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
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地址 |
台北市内湖区瑞光路480号10楼 |