发明名称 不需添加氢气的积层陶瓷元件之低温共烧制程及其制品
摘要 一种积层陶瓷元件之低温共烧制程,其使介电陶瓷与铜金属(Cu)于含有保护气体、水气与氧气之混合气氛中,并于控制氧分压下进行烧结反应,由于此制程不需切换气体而可有效缩短制程时间,亦由于此制程中不需添加氢气(H2),因此在制程安全性与成本考量上,更具实用价值。此外,本发明中使用铜金属(Cu)作为主要电极材料,可大幅降低材料成本,并维持极佳的金属导电性。利用此制程所制作出的积层陶瓷电容器,具有低散逸系数、高绝缘阻抗与低介电损失之特性,亦可应用在以铜为导体的积层陶瓷元件,包括电感、滤波器等。
申请公布号 TWI394736 申请公布日期 2013.05.01
申请号 TW097126376 申请日期 2008.07.11
申请人 华新科技股份有限公司 台北市内湖区瑞光路480号10楼 发明人 朱立文;任云怀;颜政伟;庄朝栋
分类号 C04B35/65;C04B35/46;H01G4/12;H01G4/30 主分类号 C04B35/65
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 台北市内湖区瑞光路480号10楼