磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置及方法

摘要

本发明是一种磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置及方法。包括有研磨头主轴、基板、具有与超薄硬脆材料基片的形状及大小一致的磁性套、高磁感应强度磁性体、研磨盘修整套、研磨盘、研磨盘主轴，其中固定螺钉将布置有高磁感应强度磁性体的基板镶嵌固定在磁性套上形成柔性研磨抛光头，研磨盘固定在研磨盘主轴上，研磨盘修整套置于研磨盘上，磁流变工作液通过循环管加入到研磨盘的上表面。本发明的基于磁流变效应的电子陶瓷基片柔性研磨抛光装置能对厚度小，翘曲变形大，研磨加工中易破碎、装夹困难的超薄硬脆材料基片进行研磨抛光,设计合理，方便实用。本发明磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛方法操作简单。

主权项

一种磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置，其特征在于包括有研磨头主轴（1）、基板（2）、具有与超薄硬脆材料基片（6）的形状及大小一致的磁性套（4）、高磁感应强度磁性体（5）、研磨盘修整套（8）、研磨盘（11）、研磨盘主轴（13），其中固定螺钉（3）将布置有高磁感应强度磁性体（5）的基板（2）镶嵌固定在磁性套（4）上形成柔性研磨抛光头，研磨盘（11）固定在研磨盘主轴（13）上，研磨盘修整套（8）置于研磨盘（11）上，磁流变工作液(15)通过循环管（16）加入到研磨盘（11）的上表面。