一种工艺腔室排风系统

摘要

本实用新型提供一种工艺腔室排风系统，该排风系统包括，至少一套排风单元、主排风管道和控制器；所述排风单元包括工艺腔室、排风支管、调节阀、电机和差压计；所述调节阀安装在排风支管内；所述控制器与差压计、电机相连接，电机与调节阀相连接；排风支管的入口与工艺腔室相连，排风支管的出口与主排风管道相连。采用上述排风系统进行排风，能够灵活地改变工艺腔室内部的气流场，减少工艺过程中的液滴及产生的颗粒等对处理晶片造成二次污染，使得晶片的工艺处理效果得到显著提高。

主权项

一种工艺腔室排风系统，该排风系统包括，至少一套排风单元、主排风管道（2），其特征在于，该排风系统还包括控制器；所述排风单元包括工艺腔室（1）、排风支管（3）、调节阀、电机和差压计（5）；所述调节阀安装在排风支管（3）内；所述控制器与差压计（5）、电机相连接，电机与调节阀相连接；排风支管（3）的入口与工艺腔室相连，排风支管（3）的出口与主排风管道（2）相连。