等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置。其具有：收容被处理基板并能够真空排气的处理容器；在处理容器内对置配置的第一电极和第二电极；将高频电力施加到所述第一电极的高频电源；将直流电压施加到所述第一电极的直流电源；和将处理气体供给到处理容器内的处理气体供给单元。在第一电极与第二电极之间生成处理气体的等离子体并对被处理基板进行等离子体处理。其中，第一电极具有电极支承部件和设置于电极支承部件的等离子体侧的多个电极板，在多个电极板的每一个电极板与电极支承部件之间插有电介质膜，多个电极板分别通过开关与直流电源连接，来自直流电源的直流电压能够选择性地施加于多个电极板。

主权项

一种等离子体处理装置，具有：收容被处理基板并能够真空排气的处理容器；在处理容器内对置配置的第一电极和第二电极；将高频电力施加到所述第一电极的高频电源；将直流电压施加到所述第一电极的直流电源；和将处理气体供给到所述处理容器内的处理气体供给单元，该等离子体处理装置在所述第一电极与所述第二电极之间生成处理气体的等离子体并对被处理基板进行等离子体处理，其特征在于：所述第一电极具有电极支承部件和设置于所述电极支承部件的所述等离子体侧的内侧电极板和外侧电极板，在所述内侧电极板和外侧电极板的每一个电极板与所述电极支承部件之间插有电介质膜，所述内侧电极板和外侧电极板分别通过开关与所述直流电源连接，来自所述直流电源的直流电压能够选择性地施加于所述内侧电极板和外侧电极板，所述电介质膜阻断来自所述直流电源的直流，使来自所述高频电源的高频通过。