用于高气体流速处理的环形等离子体室

摘要

一种用于激活工艺气体的等离子体室，包括：形成环形等离子体通道的至少四段，每一段具有一横截面积；以及在一段上形成的出口，该出口的横截面积大于其它段的横截面积。该等离子体室还包括：用于接收工艺气体的入口；以及压力通风室，用于在与出口相对的段的宽阔区域上引入工艺气体，以降低局部高等离子体阻抗和气流不稳定性，其中与出口相对的段限定多个孔以在等离子体通道中提供螺旋状气旋。

主权项

一种与工艺气体源一起使用的等离子体室，包括：用于接收所述工艺气体的气体入口；形成环形等离子体通道的至少四段，每一段具有一横截面积；以及在所述等离子体通道的上段上的压力通风室，用于将所述工艺气体引入等离子体通道，其中多个孔沿所述环形等离子体通道的上段的细长部分分布，以在气体注入期间在等离子体通道中提供两个单独但相干的气旋以改进气体‑等离子体相互作用并维持流动稳定性。