发明名称 一种印花平面调整装置
摘要 本发明提供一种印花平面调整装置,包括矩形的印花平台,所述印花平台由透明材料制成,所述印花平台的四边上设置有布料调整夹具,所述印花平台的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜,所述第一菲涅尔透镜中心的上方设置有成像器件,所述第二菲涅尔透镜中心的下方设置有光源,所述成像器件与一图像处理逻辑模块建立数据连接,本发明的图像处理逻辑模块根据所述成像器件的图像进行图像处理后,得到需要印花衣物的明暗分布图,根据所述明暗分布图调整所述条形布料夹具的位置,达到使布料分布均匀的目的,保持印花的均匀性。
申请公布号 CN103057258A 申请公布日期 2013.04.24
申请号 CN201210549324.1 申请日期 2012.12.18
申请人 苏州展华纺织有限公司 发明人 欧阳文贻
分类号 B41F17/38(2006.01)I 主分类号 B41F17/38(2006.01)I
代理机构 常州市维益专利事务所 32211 代理人 王凌霄
主权项 一种印花平面调整装置,包括矩形的印花平台(100),其特征在于:所述印花平台(100)由透明材料制成,所述印花平台(100)的四边上设置有布料调整夹具,所述印花平台(100)的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜(520)、第二菲涅尔透镜(510),所述第一菲涅尔透镜(520)中心的上方设置有成像器件(600),所述第二菲涅尔透镜(510)中心的下方设置有光源(400),所述成像器件(600)与一图像处理逻辑模块建立数据连接,图像处理逻辑模块根据所述成像器件(600)的图像进行图像处理后,得到需要印花衣物的明暗分布图,根据所述明暗分布图调整所述布料调整夹具的位置,达到使布料分布均匀的目的。
地址 215222 江苏省苏州市吴江区盛泽镇