发明名称 |
用于半导体发光器件的钝化 |
摘要 |
钝化层(34)设置在半导体结构(20)的一侧上,所述半导体结构包括设置在n型区域(22)和p型区域(26)之间的发光层(24)。配置为粘附到底部填充物(58)的材料(38)设置在半导体结构的蚀刻表面上。 |
申请公布号 |
CN103069589A |
申请公布日期 |
2013.04.24 |
申请号 |
CN201180028217.8 |
申请日期 |
2011.05.11 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司;飞利浦拉米尔德斯照明设备有限责任公司 |
发明人 |
F.S.迪雅纳;H.K-H.朝;Q.莫;S.L.鲁达滋;F.L.韦;D.A.斯泰格瓦尔德 |
分类号 |
H01L33/44(2006.01)I;H01L33/46(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/44(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
初媛媛;汪扬 |
主权项 |
一种方法,包括:提供结构,该结构包括: 晶片,包括多个半导体发光器件,每个发光器件包括设置在n型区域和p型区域之间的发光层; 钝化层,设置在各半导体发光器件中至少一个的一侧上;以及 第一材料,设置在两个半导体发光器件之间的晶片上;在所述结构和底座之间设置第二材料,其中所述第一材料配置为粘附到所述第二材料;以及将所述结构附接到所述底座。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |