发明名称 |
反应气体混合装置及包含该装置的等离子体处理设备 |
摘要 |
本实用新型涉及一种反应气体混合装置以及包含该装置的等离子体处理设备,等离子体处理设备包括反应腔室和气体喷淋头,反应气体混合装置用于将第一气体和第二气体混合为反应气体,反应气体导入等离子体处理设备中进行等离子体处理工艺,该混合装置包括:第一气体进气口、第二气体进气口、混合气体出口以及混合气体管道,混合气体管道一端连接第一气体进气口和第二气体进气口,另一端连接混合气体出口,其包括至少一个第一管道部和至少一个第二管道部,第一管道部和第二管道部为混合气体管道中相邻接的管道部分;其中,在第一管道部和第二管道部之间还接有至少一个弯角管道。其结构简单、实施便利,实现了对反应气体的均匀混合。 |
申请公布号 |
CN202893212U |
申请公布日期 |
2013.04.24 |
申请号 |
CN201220448240.4 |
申请日期 |
2012.09.04 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
魏强;倪图强 |
分类号 |
B01F3/02(2006.01)I;B01F5/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
B01F3/02(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
张龙哺;冯志云 |
主权项 |
一种反应气体混合装置,与等离子体处理设备配合使用,所述等离子体处理设备包括反应腔室和气体喷淋头,所述反应气体混合装置用于将第一气体和第二气体混合为所述反应气体,所述反应气体导入所述等离子体处理设备中进行等离子体处理工艺,所述混合装置包括:第一气体进气口,所述第一气体从所述第一气体进气口通入;第二气体进气口,所述第二气体从所述第二气体进气口通入;混合气体出口,所述反应气体通过所述混合气体出口经所述气体喷淋头导入所述反应腔室;混合气体管道,其一端连接所述第一气体进气口和第二气体进气口,其另一端连接所述混合气体出口,所述混合气体管道包括至少一个第一管道部和至少一个第二管道部,所述第一管道部和第二管道部为所述混合气体管道中相邻接的管道部分;其特征在于,在所述第一管道部和所述第二管道部之间还接有至少一个弯角管道。 |
地址 |
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 |