| 发明名称 | 一种抗低温氧化的二硅化钼基合金及其制备工艺 | ||
| 摘要 | 一种抗低温氧化的二硅化钼基合金及其制备工艺，属于抗氧化结构材料技术领域。抗低温氧化的二硅化钼基合金化学表达式为(Mo1-xNx)Si2，其中X处于0～0.5的范围之内，N为Nb、W、Ti、Cr中的一种元素，合金表面具有一层保护膜。将二硅化钼基合金表面磨光，然后把二硅化钼基合金放在空气等氧化性气氛中于1000～1500℃高温烧结10～120分钟，使表面自生形成一层致密的保护膜。优点在于，通过高温使合金表面自动生成一层薄的、致密的、粘结良好的保护膜，该保护膜成为低温氧化时氧的阻挡层，从而使得该二硅化钼基合金具有良好的抗低温氧化性能。本发明针对性强、工艺简单、无需特殊设备、成本低、可以有效抑制二硅化钼基合金的低温粉化现象，具有广泛的实用价值。 | ||
| 申请公布号 | CN103060654A | 申请公布日期 | 2013.04.24 |
| 申请号 | CN201310040771.9 | 申请日期 | 2013.02.02 |
| 申请人 | 中国矿业大学 | 发明人 | 冯培忠;苏健;王晓虹;孙智;牛继南;强颖怀 |
| 分类号 | C22C29/18(2006.01)I;C23C8/12(2006.01)I | 主分类号 | C22C29/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京华谊知识产权代理有限公司 11207 | 代理人 | 刘月娥 |
| 主权项 | 一种抗低温氧化的二硅化钼基合金，其特征在于：二硅化钼基合金化学表达式为(Mo1‑xNx)Si2，其中X处于0～0.5的范围之内；所述的(Mo1‑xNx)Si2中N为Nb、W、Ti、Cr中的一种元素；所述的(Mo1‑xNx)Si2合金表面有一层抗低温氧化性能的保护膜。 | ||
| 地址 | 221116 江苏省徐州市大学路1号 | ||