| 发明名称 |
具有经改善的底部关键尺寸的金属膜堆叠的制造方法 |
| 摘要 |
一种金属膜堆叠的制造方法，其用以降低或消除光微影对不准的不良效应。藉由底部氮化钛阻障物的移除，而增加底部关键尺寸。 |
| 申请公布号 |
TWI394216 |
申请公布日期 |
2013.04.21 |
| 申请号 |
TW098143237 |
申请日期 |
2009.12.16 |
| 申请人 |
旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |
发明人 |
许汉辉;杨大弘;洪士平;吴明宗;魏安祺;李庆雄;韦国梁 |
| 分类号 |
H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
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| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |
