发明名称 |
Verfahren zur Behandlung von Siliziumwafern, Behandlungsflüssigkeit und Siliziumwafer |
摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung von Siliziumwafern, insbesondere als Substrate für die Herstellung von Solarzellen, wobei die Oberfläche der Siliziumwafer mit einer Behandlungsflüssigkeit, die Wasser, wenigstens eine alkalische Ätzkomponente und wenigstens ein Ätzadditiv aus der Substanzklasse der Celluloseether enthält, benetzt und dabei texturiert wird. Die Erfindung betrifft auch eine entsprechende Behandlungsflüssigkeit sowie Siliziumwafer, die mit einem solchen Verfahren hergestellt worden sind oder mit einer solchen Behandlungsflüssigkeit behandelt worden sind.</p> |
申请公布号 |
DE102011084346(A1) |
申请公布日期 |
2013.04.18 |
申请号 |
DE20111084346 |
申请日期 |
2011.10.12 |
申请人 |
SCHOTT SOLAR AG |
发明人 |
VAAS, KNUT;SCHUM, BERTHOLD;LACHOWICZ, AGATA |
分类号 |
H01L31/18;H01L21/306;H01L31/0236 |
主分类号 |
H01L31/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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